电子半导体行业用研磨抛光料平板状氧化铝10um9um

2022-10-29 14:32:36发布信息编号：12685404

公司：	河南四成研磨科技有限公司
联系人：	贾莹(销售人员)
所在地：	河南 - 郑州,郑州市二七区嵩山南路亚星时代广场
价格：	面议
联系：	微信：JIA05030 电话：0371-63315769 手机：13598008637

平板状氧化铝抛光粉是以优质工业氧化铝粉为原料，采用特殊生产工艺处理，生产出来的氧化铝抛光粉晶体形状呈六角平板状，因而称之为平板状氧化铝或片状氧化铝。

平板状氧化铝的氧化铝纯度99%以上，具有耐热，耐酸碱腐蚀，硬度高的特点。与传统磨料球形颗粒不同，平板状氧化铝的底面平整，研磨时颗粒贴合工件表面，产生滑动的研磨效果，避免了颗粒尖角对工件表面的划伤，另一方面，平板状氧化铝进行研磨时，研磨压力是均匀分布在颗粒表面，颗粒不易破碎，耐磨性能提高，从而提高了研磨效率和表面光洁度。

对于半导体材料如半导体硅片，平板状氧化铝的应用，可以减少磨削时间，大幅提高研磨效率，减少磨片机的损耗，节省人工和磨削成本，提高磨削合格率。品质接近国外知名品牌。

显像管玻壳磨削工效提高3-5倍；

合格品率提高10-15%，半导体硅片合格品率达到99%以上；

研磨消耗量比普通氧化铝抛光粉减少40-40%；

化学成分：（平板状氧化铝硅片研磨10um 8um氧化铝)

Al2O3	≥99.0%
SiO2	＜0.2
Fe2O3	＜0.1
Na2O	＜1

物理性能：（平板状氧化铝硅片研磨10um 8um氧化铝

化学成分	α-Al2O3
颜色	白色
比重	≥3.9g/cm3
莫氏硬度	9.0

生产规格：（平板状氧化铝硅片研磨10um 8um氧化铝）

型号	D3(um)	D50（um）	D94（um）
CA40	39-44.6	27.7-31.7	18-20
CA35	35.4-39.8	23.8-27.2	15-17
CA30	28.1-32.3	19.2-22.3	13.4-15.6
CA25	24.4-28.2	16.1-18.7	9.6-11.2
CA20	20.9-24.1	13.1-15.3	8.2-9.8
CA15	14.8-17.2	9.4-11	5.8-6.8
CA12	11.8-13.8	7.6-8.8	4.5-5.3
CA09	8.9-10.5	5.9-6.9	3.3-3.9
CA05	6.6-7.8	4.3-5.1	2.55-3.05
CA03	4.8-5.6	2.8-3.4	1.5-2.1

免责申明：聚荣网所展示的信息由用户自行提供，其真实性、合法性、准确性由信息发布人负责。使用本网站的所有用户须接受并遵守法律法规。聚荣网不提供任何保证，并不承担任何法律责任。聚荣网建议您交易小心谨慎。